用途：专门为精密光学薄膜器件镀膜生产而设计，各系统单元和总体结构很好地满足了光学薄膜生产工艺的要求，适用于增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀制。

基本参数：

1、极限真空：3×10^-4Pa

2、恢复真空时间：大气至4×10^-3Pa≤15min

3、采用KT-630型扩散泵（18000L/s）两台(带移相温度控制)，HGL－150型滑阀泵一台+ZJP-600罗茨泵一台，维持泵2X－30型机械泵（30L/s）一台；配备防湍流装置

4、真空程序有自动和手动两种模式。日本欧姆龙型PLC控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入PLC控制信号；PLC程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警；12英寸触摸屏在线监控PLC各种输入及输出信号。

5、工件转动：采用磁流体密封转动装置，其它地方采用传统的橡胶圈密封

6、工件烘烤：桶状上烘烤,三点控温,加热器采用管状加热器，配温控仪

7、E型电子枪两支，枪功率10KW/支；束偏转角270°；阳极电压为8KV、10KV；束流：0－1000mA可调；具有X、Y方向扫描，扫描波形有三角波、正弦波、矩形波可选择，电子枪主体有屏蔽罩，电子枪输出功率稳定。

8、配备美国MAXTEK公司的MDC360C型石英晶体膜厚仪。

9、Φ16CM的离子源

10、12英寸的触摸屏，可编程控制器（PLC）中央控制方式及其相关电气控制单元对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制