>> 产品名称：四靶共溅射镀膜机
企业联系信息
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>> 产品相关参数
| 产品型号： | JGP600 |
| 原 产 地： | 辽宁沈阳 |
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>> 产品详细说明
| 该设备采用磁控共溅射方式沉积薄膜，可用于镀制各种金属膜、合金膜、半导体膜、铁电薄膜及各种介质膜和掺杂的化合物薄膜。
极限真空：≤6×10-5Pa 磁控溅射室尺寸：Φ600×H450，梨形截面筒式真空室，大法兰盖电动升降，全不锈钢结构。 样品尺寸：Φ200一片，镀膜时样品转动60～90转/分连续可调，可水冷也可加热（用户自选） 磁控靶：2～4支永磁靶 工作压强：（6～8）×10-2Pa 压强控制：下游压力自动控制 整机控制方式：PLC可编程+计算机控制：真空泵抽气与真空测量系统的控制；样品转速的控制；磁控靶极工作压强的控制；磁控靶极功率大小的调节控制；磁控靶极挡板自动开关控制；膜系设定与控制（不同靶极下镀膜层数与镀膜时间的控制）。 |
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